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  光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻,所以叫 Mask Alignment System.   一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。   Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);   在硅片表面匀胶,然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
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探析EUV光刻未来的发展趋势 探析EUV光刻未来的发展趋势 用于高端逻辑半导体量产的EUV(Extreme Ultra-Violet,极紫外线光刻)曝光技术的未来蓝图逐渐“步入”我们的视野,从7nm阶段的技术节点... 2019-01-21 标签: 半导体EUV 129 0
三星表示将在2019下半年量产内含EUV技术的7纳米制程 2021年量产3纳米GAA制程 三星表示将在2019下半年量产内含EUV技术的7纳米制程 2021年量产3纳米GAA制程 为了减低近期存储器降价带来的冲击,全球存储器龙头三星逐渐强化晶圆代工业务,希望有机会进一步拉近与台积电的差距。在先进制程的发展方面,根据三星高层表示,将... 2019-01-14 标签: 三星EUV 506 0
台积电预计到2019年底会有100多款客户产品基于其7nm工艺 台积电预计到2019年底会有100多款客户产品基于其7nm工艺 半导体工艺越来越复杂,不过凭借强大的实力、不断的投入,再加上技术上的一些“偷懒”,台积电还是相继征服了10nm、7nm、5nm,其中7nm工艺已经迅速普... 2019-01-10 标签: 半导体台积电EUV 72 0
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